• 瑞士进口纳米划痕测试仪NST3

    详细信息

     品牌:CSM  型号:NST3  加工定制:是  
     外形尺寸:X mm 重量:m ㎏ 产品用途:厚度小于1000nm的薄膜和涂层的结  
     最大载荷:1000mN  最大位移:600 μm   
    瑞士CSM仪器公司致力于各种块体和薄膜材料机械性质测试仪器的研发、制造与商业化。面向全球的大学、研究所、工业企业提供我们的精密测试仪器、标准化测试服务以及三十余年在机械测试领域积累的宝贵经验。
    瑞士CSM仪器公司的产品经受了三十年国际市场的考验。早先的产品曾以LSRH或CSEM命名。
    瑞士CSM仪器公司提供针对薄膜或块体材料机械性质的测试仪器。涂料、光学薄膜、硬质涂层等与基体的结合强度可以由划痕仪器测试。测试范围包括纳观、微观和宏观。动态压痕测试仪器为您提供纳米或微米尺度下材料的硬度、弹性模量、蠕变、断裂韧性等性质。我们还为您提供纳米级、微米级摩擦磨损测试仪器,用以测量材料的摩擦系数和磨损率。我们的球磨仪器是测量薄膜厚度*简单准确的工具。
    上海铸金分析仪器有限公司代理经销CSM全系列原装进口划痕测试仪、压痕测试仪、摩擦磨损试验机,可为中国大陆华东区用户提供品质可靠、价格合理的瑞士CSM仪器公司原装进口划痕测试仪、压痕测试仪、摩擦磨损试验机的售前、售中、售后一条龙服务。
    海铸金分析仪器有限公司供应多款划痕测试仪.如大载荷划痕测试仪、纳米划痕测试仪、微米划痕测试仪、微观组合测试仪、涂层划痕测试仪、薄膜划痕测试仪等,如您需要划痕测试仪,欢迎来电垂询,我们将根据您的需求推荐适合的表面划痕测试仪、涂层划痕测试仪、薄膜划痕测试仪等产品。
    瑞士进口纳米划痕测试仪NST³仪器简介:
    市场上z精确的纳米划痕测试仪   
    纳米划痕测试仪专门用于表征厚度小于 1000 nm 的薄膜和涂层的结合力。纳米划痕测试仪可用于分析有机的和无机的以及软的和硬的薄膜。如:薄的和多层的 PVD、CVD、PECVD、光刻胶、油漆、涂料和其他各种薄膜。NST³ 涵盖光学、微电子、防护、装饰等 应用领域。基体可以是硬的或软的,包括合金、半导体、玻璃、可折射的和有机材料。
    瑞士进口纳米划痕测试仪NST³主要特点:
    ●施加较小的载荷时具有极快的响应速度
    纳米划痕测试仪带有载荷传感器,采用双悬臂梁用于施加载荷,以及压电式驱动器用于对施加的载荷快速响应。这一设计理念还修正了在划痕过程中发生的任何事件(例如出现裂纹和失效、缺陷或样品不平整)而导致的测量结果偏差。
    ●适用于弹性恢复研究的专利真实划痕位移测量
    在划痕之前、过程和之后,位移传感器 (Dz) 一直记录样品的表面的轮廓。这让您可以在划痕过程中或之后评估针尖的位移量,从而可以评估材料的弹性、塑性和粘弹性能(专利:US 6520004)
    ●不打折扣:施加任何微牛级的载荷
    闭环主动力反馈系统可在 1 μN 以下进行更精确的纳米划痕测试。纳米划痕测试仪包含一个 传感器测量载荷,可以直接反馈给法向载荷驱动器。这确保施加的载荷就是用户设置的载荷。
    ●高质量光学成像带“跟踪聚焦”功能
    集成显微镜包括配置高质量物镜的转塔和 USB 照相机。划痕成像时,能轻松将放大倍数从 x200 转换为 x4000,实现在低放大倍数和高放大倍数自由切换从而更好地对样品进行评估。“跟踪聚焦”功能可以进行将多个划痕的 Z 样品台自动聚焦到正确位置。
    ●划痕后可用多次后扫描模式评估弹性性能
    划痕后,您可以在软件中用时间增量定义无限次后扫描测量残余位移。这种全新的分析方法将让您进一步了解表面变形性能与时间的依赖关系。
    瑞士进口纳米划痕测试仪NST³典型应用:
    •聚合物:薄膜和/或表面特性表征(耐磨损性)
    •薄膜聚合物基体氧化物涂层
    •超纳米金刚石 (UNCD) 薄膜的机械性能
    •硬质涂层(PVD、CVD 涂层):厚度小于 1 微米
    •晶圆:厚度范围为 10 nm 至 500 nm
    •光学和玻璃:薄膜和/或表面特性表征(耐划擦性)
    •涂层表面的物理特性分析
    瑞士进口纳米划痕测试仪NST³技术指标:
    施加的载荷
    分辨率 0.01 μN
    *大载荷 1000 mN
    本底噪音 0.1 [rms] [μN]*
    摩擦力
    分辨率 0.3 μN
    *大摩擦力 1000 mN
    位移
    分辨率 0.3 nm
    *大位移 600 μm
    本底噪音 1.5 [rms] [nm]*
    速度
    速度 0.4 mm/min 600 mm/min
    *理想实验室条件下规定的本底噪音值,并使用减震台。
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